香港計算器

霍爾係數計算器

輸入霍爾電壓 V_H、電流 I、磁場 B、樣品厚度 t,計算霍爾係數 R_H=V_H·t/(I·B) 與載子密度 n=1/(e·R_H)。V_H=1e-5V, I=10A, B=0.1T, t=1e-4m → R_H=1e-9 m³/C, n≈6.24e27 1/m³。

輸入資料

霍爾電壓 V_H(V)。由洛倫茲力與電場平衡產生,方向垂直於電流與磁場。
V
通過樣品的電流 I(A)。半導體量測常用 1-100 mA;金屬用 1-10 A。
A
外加磁場 B(T)。地磁場 5e-5;霍爾感測器磁鐵 0.1;超導磁體 1-10。
T
樣品厚度 t(m)。霍爾片典型 0.1mm;薄膜 1μm。
m

計算結果

0.000000001m³/C
6,241,509,074,460,763,000,000,000,0001/m³
100,000A/m²

重點速覽:霍爾係數(Hall coefficient,R_H):物質中載子濃度的特徵量,由霍爾效應定義 R_H=V_H·t/(I·B),單位 m³/C。物理機制:通電流 I 的導體置於磁場 B 中,載子受洛倫茲力 F=qv×B 偏轉累積於一側,形成橫向電場 E_H 直至電力與磁力平衡 qE_H=qv·B。導出 V_H=v·B·w(w 為寬度),結合 v=I/(n·q·w·t) 得 V_H=I·B/(n·q·t),故 R_H=V_H·t/(I·B)=1/(n·q)。R_H 符號決定載子類型:R_H<0 為電子(金屬、N 型半導體),R_H>0 為電洞(P 型半導體)。載子密度 n=1/(|R_H|·e),e=1.602×10⁻¹⁹ C。典型值:銅 R_H=−5.4×10⁻¹¹ m³/C(n≈1.1×10²⁹ 1/m³);矽 N 型 1e-4 Ω·cm 摻雜 R_H≈−1e-3 m³/C(n≈6e21);銦銻化合物半導體 R_H≈−1e-4。多能帶物質(如過渡金屬)R_H 不能簡單換算 n。經典例:V_H=1e-5V、I=10A、B=0.1T、t=1e-4m → R_H=1e-5×1e-4/(10×0.1)=1e-9 m³/C,n=1/(1e-9×1.602e-19)=6.24×10²⁷ 1/m³;電流密度(單位寬度)J=I/t=10/1e-4=1e5 A/m²。歷史:霍爾 1879 年於約翰霍普金斯大學發現;當時尚未發現電子(1897 年湯姆森)。應用:(1) 半導體材料分析——測摻雜濃度與型號;(2) 霍爾感測器——非接觸電流計、馬達位置偵測、汽車點火;(3) 磁通計——磁場測量;(4) 量子霍爾效應——電阻標準(克里欽常數 R_K=h/e²≈25812.8 Ω);(5) 等離子體診斷——核融合反應爐。

計算公式

霍爾係數:R_H = V_H · t / (I · B)

霍爾電壓:V_H = I · B / (n · q · t) = R_H · I · B / t

載子密度:n = 1 / (|R_H| · e)

電流密度(單位寬度):J = I / t

基本電荷:e = 1.602176634×10⁻¹⁹ C

$$R_H = \frac{V_H \cdot t}{I \cdot B} = \frac{1}{nq}, \quad n = \frac{1}{|R_H| \cdot e}, \quad V_H = \frac{I B}{nqt}$$

使用說明

  1. 輸入霍爾電壓 V_H(V)、電流 I(A)、磁場 B(T)、樣品厚度 t(m)。
  2. 系統計算 R_H=V_H·t/(I·B)、n=1/(|R_H|·e)、J=I/t。
  3. 常用:V_H=1e-5, I=10, B=0.1, t=1e-4 → R_H=1e-9 m³/C, n≈6.24e27 1/m³。

常見材料的霍爾係數與載子密度(室溫)

常見材料的霍爾係數與載子密度(室溫)
材料類別R_H (m³/C)n (1/m³)V_H at I=1A, B=1T, t=1mm
金屬-5.4e-111.15e29-5.4e-8
金屬-8.9e-117.01e28-8.9e-8
金屬-1.7e-103.67e28-1.7e-7
金屬+3.3e-111.89e29+3.3e-8
半金屬-5.4e-71.15e25-5.4e-4
矽(N型, 1e15 cm⁻³)半導體-6.25e-31.00e21-6.25
矽(P型, 1e16 cm⁻³)半導體+6.25e-41.00e22+0.625
砷化鎵(N型)半導體-1.0e-46.24e22-0.1
銻化銦半導體-3.8e-41.64e22-0.38
石墨烯2D材料-1.0e-86.24e26-1.0e-5

R_H 符號決定載子類型:負為電子(N型)、正為電洞(P型)。鋅為例外(雙能帶載子),R_H 符號與單一電子模型不符。e=1.602×10⁻¹⁹ C。

理財情境案例

半導體晶圓摻雜濃度量測

矽晶圓霍爾量測:切 5×5mm 樣品厚 0.5mm,I=1mA、B=0.5T、t=0.5mm,測得 V_H=−0.625 mV → R_H=−0.625e-3×0.5e-3/(1e-3×0.5)=−6.25e-4 m³/C。

n=1/(6.25e-4×1.602e-19)=1.0×10²² 1/m³=1.0×10¹⁶ cm⁻³,對應 N 型磷摻雜電阻率約 0.5 Ω·cm。

整合電導率 σ 得載子遷移率 μ=σ·R_H=200×6.25e-4=0.125 m²/(V·s)。香港微電子實驗室以此品控半導體元件摻雜均勻度。

電動車無刷直流馬達位置偵測

電動車馬達需精確知道轉子磁極位置以控制相位電流。霍爾感測器安裝於定子,偵測轉子永磁鐵磁場變化。

馬達磁鐵 B=0.3T、霍爾元件靈敏度 1e-4 V/T(銻化銦)→ V_H≈3e-5 V,放大 1000 倍輸出 30mV 脈衝訊號。

三個霍爾感測器間隔 120° 安裝,輸出三相脈衝編碼轉子位置,控制演算法切換電流方向實現連續旋轉。香港電動巴士 200kW 馬達採用此方案達 95% 效率。

常見問題

為什麼 R_H 符號能決定載子類型?

霍爾效應中載子受洛倫茲力 F=qv×B 偏轉,偏轉方向取決於電荷符號 q。電子(q=−e)與電洞(q=+e)在相同電流方向下運動方向相反,受磁力偏轉方向相同,故累積電荷相反,產生相反符號的 V_H 與 R_H。測 R_H 符號即可判別半導體為 N 型或 P 型,這是判別載子類型最直接的方法。

為什麼金屬 R_H 與簡單模型不符?

簡單自由電子模型預測 R_H=−1/(n·e),但許多金屬(鋅、鉛、鐵)R_H 為正或偏離預測。原因為金屬有多個費米面能帶,電子與電洞同時貢獻導電,需用雙帶模型 R_H=(p·μ_p²−n·μ_n²)/(e·(p·μ_p+n·μ_n)²)。鋅因電洞能帶貢獻佔優而 R_H>0。半導體單能帶主導故模型準確。

霍爾感測器為何優於機械式開關?

霍爾感測器非接觸式測量磁場,無機械磨損,壽命達 10⁸ 次以上;響應時間 <1μs;可測直流與交流;對粉塵、油污、振動不敏感。汽車點火系統 1980 年代起由機械白金觸點改為霍爾感測器,免維護、精度高,是電子點火與無刷馬達控制核心元件。

如何量測微小霍爾電壓?

(1) 鎖相放大器——以交流電流調製分離霍爾訊號與熱電勢;(2) 反向磁場法——測 +B、−B 兩次取平均消除不對稱電位;(3) 反向電流法——測 +I、−I 消除殘留電位;(4) 樣品幾何對稱——四角霍爾接觸避免誤差;(5) 恆溫屏蔽——避免熱漂移。半導體高阻樣品需低溫 4K 減少熱擾動,可達 nV 級精度。

量子霍爾效應與經典霍爾有何不同?

1980 年克利欽在二維電子氣低溫強磁場下發現霍爾電阻 R_H 隨磁場量子化階梯 R_xy=h/(ν·e²),ν=1,2,3...,整數階段精度 10⁻⁹,定義電阻標準 R_K=h/e²=25812.807 Ω。1982 年分數量子霍爾效應發現(勞克林、施特默、崔琦獲 1998 諾貝爾獎)。量子霍爾證明二維系統拓撲相變,至今是凝聚態物理重要分支,應用於量子度量與拓撲材料研究。

相關工具

參考資料

內容審核:香港計算器科學團隊。R_H=V_H·t/(I·B)=1/(n·q),n=1/(|R_H|·e),e=1.602×10⁻¹⁹ C。V_H=1e-5V、I=10A、B=0.1T、t=1e-4m → R_H=1e-9 m³/C, n≈6.24e27 1/m³。R_H 符號決定載子類型(N 負、P 正)。